일본 규제 장기화땐 반도체 R&D도 고립

(사진제공=SK하이닉스)

일본 정부가 한국에 대한 수출 규제를 전면 시행한 지 일주일 가까이 흘렀다.

일본의 조치가 장기화될 조짐을 보이면서 국내 반도체 업계는 생산 차질을 넘어 ‘초격차 기술력’에도 금이 가지 않을까 염려하고 있다.

10일 관련 업계에 따르면 일본의 반도체 소재 수출 규제가 장기화하면 국내 반도체 연구개발(R&D)도 적잖은 타격을 입을 것으로 전망된다.

반도체는 연구소가 공장의 축소판으로 불릴 정도로 연구와 생산이 밀접하게 맞닿아 있는 산업이다. 소재 수급에 차질이 빚어지게 되면 자연스럽게 R&D도 더디게 진행될 수밖에 없다.

일본이 수출 규제한 3가지 품목 가운데 가장 큰 피해를 줄 수 있는 제품은 극자외선(EUV) 공정에 사용되는 포토 레지스트(감광액)다.

10나노 이하 미세공정을 위해서는 EUV가 필수다. 2년마다 메모리 반도체 집적도를 2배 높인다는 이른바 ‘무어의 법칙’을 지속적으로 추구하기 위해서 대표 기술로 꼽히는 것이 바로 EUV 노광 공정이다.

삼성전자 파운드리(반도체 위탁생산) 사업부는 이미 EUV 노광 공정을 처음으로 도입하고 7나노 칩 본격 생산을 준비하고 있다.

대만 파운드리 업체 TSMC 역시 차세대 7나노 공정에선 EUV를 활용할 계획이다. 세계 최대 반도체 회사 인텔도 EUV에 관한 R&D를 계속하고 있다.

EUV 라인은 미세 공정을 위해서는 고품질 포토 레지스트가 필수다. 포토 레지스트는 국내에서 일부 생산되고 있지만, 일본에 비해 5~6년이 늦은 후발주자로 시장에 진입해 경쟁력이 낮은 편이다.

일본의 EUV용 포토 레지스트를 대체할 수 있는 소재를 구하지 못하면 SK하이닉스의 경우 EUV 공정 R&D 단계부터 차질이 빚어질 수 있다.

SK하이닉스는 아직 EUV 공정을 개발하는 단계로 본격적인 양산에 들어간 것은 아니다. 회사는 EUV 공정이 업계에 본격적으로 적용되는 기간이 1~2년 남은 것으로 보고 R&D를 진행하고 있다.

업계 관계자는 “장기적으로 봤을 때 포토 레지스트 같은 경우 일본 제품을 핵심 공정에서 배제할 수는 없기 때문에 R&D에서 타격이 있을 수밖에 없다”라면서 “미세공정이 진행돼 EUV 공정까지 이어진다면 D램 쪽 타격이 더 클 것”이라고 내다봤다.